场发射扫描电镜应用原理


发布时间:2020-10-16 09:43 浏览量 4 views
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摘要: 利用细聚焦高能量电子束,在扫描线圈磁场的控制下,电子束在样品表面逐点扫描,激发出二次电子、背散射电子等物理信号,经探测器收集、放大器放大后,将信号一一对应地在显示屏上的相应各点调制成像,从而获得样品表面的放大图像。

场发射扫描电镜原理

利用细聚焦高能量电子束,在扫描线圈磁场的控制下,电子束在样品表面逐点扫描,激发出二次电子、背散射电子等物理信号,经探测器收集、放大器放大后,将信号一一对应地在显示屏上的相应各点调制成像,从而获得样品表面的放大图像。采用场发射电子光源可获得更高的分辨率和更优秀的成像质量。

分辨率:0.8nm@15kV,1.4nm@1kV

加速电压:0.02~30kV

束流:10pA~300nA

放大倍率:12~2000000

探测器:镜筒内二次电子探测器in-lens,二次电子探测器SE2,能量选择背散射探测器EsB,角度选择背散射探测器AsB,透射探测器STEM

样品台:5轴电动优选中心样品台,X=130mm,Y=130mm,Z=50mm,T=-3~70度,R=360度

附件:能谱仪,镀膜仪

应用:扫描电子显微镜​具有辩率高、景深大、成像立体感强的特点,能同时分析形貌和成分,可用于形貌观察、显微结构分析、微区成分分析、断口形貌和成分分布分析等,还可进行样品的原位动态观察和特定环境实验,在材料、纳米科学、地质、矿产、冶金、机械、化学、化工、物理、电子、生物、医学等领域都有广泛的用途。


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