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等离子体去胶机

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所属单位: 北京大学
所在位置: 北京市
距离位置: 12226km
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服务内容

用于去除基片表面刻蚀工艺过程中作为刻蚀材料保护膜的光刻胶掩膜,也可用于基片表面其它有机物的等离子体清洗。